美国TRION公司等离子去胶机

北京创世杰公司提供美国Trion公司的Orion III系列等离子增强化学气相沉积（PECVD）系统、Phantom III系列反应离子刻蚀机（RIE，DRIE，ICP等）和Apollo型等离子去胶机。美国Trion公司为化合物半导体、MEMS（微机电系统）、光电器件以及其他半导体市场提供多种等离子工艺设备。美国TRION公司提供的Orion III系列等离子增强化学气相沉积（PECVD）系统、Phantom III系列反应离子刻蚀机（RIE，DRIE，ICP等）和Apollo型等离子去胶机在业内以系统占地面积小，成本合理而着称，且设备及工艺可靠性和稳定性久经考验。美国TRION公司提供的Orion III系列等离子增强化学气相沉积（PECVD）系统、Phantom III系列反应离子刻蚀机（RIE，DRIE，ICP等）和Apollo型等离子去胶机系列产品既包含成套的批量生产设备，也有用于科研开发的系统。

型号：Apollo型和Gemini型等离子去胶机
该两种型号的去胶机是一种低损伤的去胶系统，美国Trion公司通过这两套价格低廉、紧凑型的多功能系统较大降低了等离子去胶机的成本，使得适合于实验室和中小批量生产的需要。
Gemini和Apollo型等离子去胶机黎勇ICP（电感应耦合等离子体）、微波和射频偏置功率，可以再低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求，每套系统可以结合SST-Lightning微波源（即可靠又没有任何长江的微波调谐问题）或ICP技术。
特点：
1）	刻蚀速率高达6微米/分
2）	产能高
3）	等离子损伤低
4）	自动匹配网络
5）	适用于100mm到300mm基片
6）	设备占地尺寸小
7）	价格具有好的竞争力